標準簡介：本標準的目的是制定一套可用于評估掩模缺陷檢查系統(tǒng)靈敏度的測試掩模。這套測試掩模包括：含特制圖形缺陷的測試芯片，以及不含特制圖形缺陷的參考測試芯片。由于測試芯片是由各種單集合而成，所以在本標準中，測試芯片是用單圖形、單圖形中的特制缺陷、以及單的布局來定義的。此外，測試掩模是通過規(guī)定測試芯片的排列來定義的。本標準還講述這套掩模的用法。

標準號：GB/T 17866-1999

標準名稱：掩模缺陷檢查系統(tǒng)靈敏度分析所用的特制缺陷掩模和評估測量方法準則

英文名稱：Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems

標準類型：國家標準

標準性質：推薦性

標準狀態(tài)：現(xiàn)行

發(fā)布日期：1999-09-01

實施日期：2000-06-01

中國標準分類號（CCS）：電子元器件與信息技術>>微電路>>L56半導體集成電路

國際標準分類號（ICS）：電子學>>31.200集成電路、微電子學

起草單位：中國科學院微電子中心

歸口單位：全國半導體材料和設備標準化技術委員會

發(fā)布單位：國家質量技術監(jiān)督局

檢測流程

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