標(biāo)準(zhǔn)編號(hào)：GB/T 22462-2008 鋼表面納米、亞微米尺度薄膜 素深度分布的定量測(cè)定 輝光放電原子發(fā)射光譜法

標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行

標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介：本標(biāo)準(zhǔn)采用輝光放電原子發(fā)射光譜法用于定量測(cè)定鋼表面納米、亞微米尺度薄膜(金屬鍍膜和氧化膜)中膜厚、鍍層質(zhì)量(單位面積)和薄膜中的元素深度分布。本方法適用于測(cè)定3nm～1000nm厚度的鋼表面薄膜，適用的元素包括：鐵、鉻、鎳、銅、鈦、錳、鋁、碳、磷、氧、氮和硅。

英文名稱： Nano Sub-micron scale film on steel - Quantitative depth profile analysis - Glow discharge atomic emission spectrometry

中標(biāo)分類： 化工>>化工綜合>>G04基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法

ICS分類： 計(jì)量學(xué)和測(cè)量、物理現(xiàn)象>>17.180光學(xué)和光學(xué)測(cè)量

發(fā)布部門： 中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局 中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

發(fā)布日期： 2008-10-30

實(shí)施日期： 2009-06-01

首發(fā)日期： 2008-10-30

提出單位： 全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)

檢測(cè)流程

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