紫外光電子和x射線光電子能譜檢測報(bào)告如何辦理？檢測項(xiàng)目及標(biāo)準(zhǔn)有哪些？百檢第三方檢測機(jī)構(gòu)，嚴(yán)格按照紫外光電子和x射線光電子能譜檢測相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行測試和評估。做檢測，找百檢。我們只做真實(shí)檢測。

涉及紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)有221條。

國際標(biāo)準(zhǔn)分類中，紫外光電子 和x射線光電子能譜涉及到分析化學(xué)、光學(xué)和光學(xué)測量、無損檢測、電子元器件綜合、長度和角度測量、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測量、有色金屬、電工和電子試驗(yàn)、醫(yī)學(xué)科學(xué)和保健裝置綜合、光學(xué)設(shè)備、環(huán)保、保健和安全、醫(yī)療設(shè)備、表面處理和鍍涂、金屬的腐蝕、陶瓷、耐火材料、非金屬礦、物理學(xué)、化學(xué)、涂料和清漆、計(jì)量學(xué)和測量綜合、紙和紙板、金屬材料試驗(yàn)。

在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中，紫外光電子 和x射線光電子能譜涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、質(zhì)譜儀、液譜儀、能譜儀及其聯(lián)用裝置、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、光學(xué)測試儀器、標(biāo)準(zhǔn)化、質(zhì)量管理、化學(xué)、電子測量與儀器綜合、綜合測試系統(tǒng)、電化學(xué)、熱化學(xué)、光學(xué)式分析儀器、電子元件綜合、光學(xué)計(jì)量儀器、輕金屬及其合金分析方法、物理學(xué)與力學(xué)、、化學(xué)助劑基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、金屬無損檢驗(yàn)方法、顏料、貴金屬及其合金、犯罪鑒定技術(shù)、耐火材料綜合、造紙綜合、紙。

國際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

ISO 16129:2012表面化學(xué)分析.X射線光電子能光譜學(xué).X射線光電子能譜儀日常性能評估規(guī)程

ISO 16129:2018表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 評估X射線光電子能譜儀日常性能的方法

ISO 21270:2004表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性

ISO 18516:2006表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定

ISO 18554:2016表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序

ISO 10810:2019表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜分析指南

ISO 19830:2015表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的*低報(bào)告要求

ISO 10810:2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).分析導(dǎo)則

ISO/CD TR 18392:2023表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜 確定背景的程序

ISO/TR 18392:2005表面化學(xué)分析.X射線光電子光譜學(xué).背景測定程序

ISO 14701:2018表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 氧化硅厚度的測量

ISO 16243:2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)

ISO 15470:2017表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數(shù)說明

ISO 14701:2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.二氧化硅厚度的測量

ISO 13424:2013表面化學(xué)分析——X射線光電子能譜；薄膜分析結(jié)果的報(bào)告

ISO 20903:2019表面化學(xué)分析 - 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜 - 用于確定峰值強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果時(shí)所需的信息

ISO 20903:2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能普和X射線光電子光譜.通報(bào)結(jié)果所需峰值強(qiáng)度和信息的測定方法

ISO 17109:2022表面化學(xué)分析.深度剖面.用單層和多層薄膜在X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中測定濺射速率的方法

ISO 24237:2005表面化學(xué)分析.X射線光電子光譜法.強(qiáng)度的可重復(fù)性和穩(wěn)定性

ISO 18118:2004表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測定相對敏感性因子的使用指南

ISO 18118:2015表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測定相對敏感性因子的使用指南

ISO 17109:2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

ISO/TR 19319:2003表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測

ISO/DIS 18118:2023表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和 X 射線光電子能譜 使用實(shí)驗(yàn)確定的相對靈敏度因子進(jìn)行均質(zhì)材料定量分析的指南

ISO/FDIS 18118:2023表面化學(xué)分析 - 俄歇電子能譜和 X 射線光電子能譜 - 使用實(shí)驗(yàn)確定的相對靈敏度因子進(jìn)行均質(zhì)材料定量分析的指南

ISO 20903:2006表面化學(xué)分析.螺旋電子光譜法和X-射線光電光譜學(xué).報(bào)告結(jié)果時(shí)測定峰強(qiáng)度的方法和必要信息的使用方法

ISO 19668:2017表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).均勻材料中元素檢測極限的估算和報(bào)告

ISO 17470:2004微光束分析.電子探針顯微分析.波長分散X射線光譜法分析質(zhì)量點(diǎn)的指南

ISO/CD 5861表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 石英晶體單色Al Ka XPS儀器強(qiáng)度校準(zhǔn)方法

ISO/DIS 5861:2023表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 石英晶體單色 Al Kα XPS 儀器強(qiáng)度校準(zhǔn)方法

ISO 16531:2013表面化學(xué)分析.深度剖析.原子發(fā)射光譜(AES)和光電子能譜(XPS)中深度剖析用電流或電流密度的離子束校正和相關(guān)測量方法

ISO 22489:2006微光束分析.電子探針微量分析.運(yùn)用波長色散X射線光譜測量法定量分析塊狀樣品

ISO 22489:2016微光束分析.電子探針微量分析.運(yùn)用波長色散X射線光譜測量法定量分析塊狀樣品

ISO 17470:2014微束分析. 電子探針微量分析. 用波長色散X射線光譜測定法定性點(diǎn)分析指南

ISO 22581:2021表面化學(xué)分析X射線光電子能譜測量掃描的近實(shí)時(shí)信息含碳化合物表面污染的識別和校正規(guī)則

英國標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

BS ISO 16129:2012表面化學(xué)分析.X射線光電子能光譜學(xué).X射線光電子能譜儀日常性能評估規(guī)程

BS ISO 16129:2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X 射線光電子能譜儀日常性能評估程序

BS ISO 21270:2004表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度尺度的線性

BS ISO 18516:2006表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定

BS ISO 18554:2016表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序

BS ISO 21270:2005表面化學(xué)分析.X射線光電子和俄歇電子光譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性度

BS ISO 10810:2019 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南

BS ISO 19830:2015表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的*低報(bào)告要求

BS ISO 10810:2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南

BS ISO 14701:2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 氧化硅厚度的測量

BS ISO 16243:2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)

BS ISO 14701:2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).二氧化硅厚度測量

BS ISO 19318:2021 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 報(bào)告用于電荷控制和電荷校正的方法

BS ISO 15472:2010表面化學(xué)分析.X射線光電子分光計(jì).能量等級的校準(zhǔn)

BS ISO 20903:2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X-射線光電光譜學(xué).測定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果要求的信息

BS ISO 24237:2005表面化學(xué)分析.X射線光電子光譜學(xué).強(qiáng)度標(biāo)的可重復(fù)性和穩(wěn)定性

BS ISO 20903:2019 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 用于確定峰值強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果時(shí)所需的信息

BS ISO 17109:2022表面化學(xué)分析 深度剖析 使用單層和多層薄膜的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜濺射深度分析中濺射速率的測定方法...

21/30433862 DCBS ISO 17109 AMD1 表面化學(xué)分析 深度剖析 使用單一和……的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜濺射深度分析中濺射速率測定方法

20/30423741 DCBS ISO 19318 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 報(bào)告用于電荷控制和電荷校正的方法

BS ISO 17109:2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

BS ISO 18118:2015 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 使用實(shí)驗(yàn)確定的相對靈敏度因子進(jìn)行均質(zhì)材料定量分析的指南

BS ISO 19668:2017表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 均質(zhì)材料中元素檢測限的估計(jì)和報(bào)告

BS ISO 18118:2005表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測定相對敏感性系數(shù)的使用指南

23/30461294 DCBS ISO 18118 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 使用實(shí)驗(yàn)確定的相對靈敏度因子進(jìn)行均質(zhì)材料定量分析的指南

DD ISO/TS 10798:2011納米技術(shù) 使用掃描電子顯微鏡和能量色散 X 射線光譜分析表征單壁碳納米管

BS ISO 15632:2012微束分析. 用于電子探針顯微分析的能量分散X射線光譜儀規(guī)范和檢查用所選儀器性能參數(shù)

BS ISO 15632:2021微束分析 用于電子探針顯微分析的能量分散X射線光譜儀規(guī)范和檢查用所選儀器性能參數(shù)

BS ISO 16531:2013表面化學(xué)分析.深度剖析.在光電子能譜(XPS)和原子發(fā)射光譜(AES)的深度剖析中離子束校準(zhǔn)和電流或電流密度的相關(guān)測量用方法

IEC 62607-6-21:2022納米制造 關(guān)鍵控制特性 第6-21部分：石墨烯基材料 元素組成、C/O比：X射線光電子能譜

19/30394914 DCBS ISO 15632 微束分析 用于電子探針顯微鏡或電子探針微量分析儀(EPMA)的能量色散 X 射線光譜儀的規(guī)格和檢查的選定儀器性能參數(shù)

BS ISO 22489:2007微光束分析.電子探針微量分析.用波長色散X-射線光譜測量法作塊狀樣品的定量點(diǎn)分析

23/30409204 DCBS EN IEC 62321-3-1 電子技術(shù)產(chǎn)品中某些物質(zhì)的測定 第 3-1 部分 X 射線熒光光譜法元素篩選

BS ISO 22489:2016微光束分析.電子探針微量分析.用波長色散X-射線光譜測量法作塊狀樣品的定量點(diǎn)分析

BS DD ISO/TS 10798:2011毫微技術(shù).利用掃描電子顯微鏡和能量色散X射線光譜法分析得出單層碳納米管的表示特征

BS ISO 17470:2014微束分析. 電子探針顯微分析. 采用波長分散X射線光譜測定法的定性點(diǎn)分析指南

BS ISO 22581:2021表面化學(xué)分析 來自X射線光電子能譜測量掃描的近實(shí)時(shí)信息 含碳化合物表面污染的識別和校正規(guī)則

德國標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會(huì)，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

DIN ISO 16129:2020-11表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X射線光電子能譜儀日常性能評估程序

DIN ISO 16129:2020表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜-評估X射線光電子能譜儀的日常性能的程序(ISO 16129-2018); 英文文本

DIN ISO 15472:2020-05表面化學(xué)分析 - X 射線光電子能譜儀 - 能量標(biāo)度校準(zhǔn) (ISO 15472:2010)

DIN ISO 15472:2020表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀 能標(biāo)校準(zhǔn)（ISO 15472:2010）；英文文本

DIN EN ISO 21587-3:2007-12鋁硅酸鹽耐火制品的化學(xué)分析（替代X射線熒光法）-第3部分：電感耦合等離子體和原子吸收光譜法

DIN EN ISO 10058-3:2009菱鎂礦和白云石耐火制品的化學(xué)分析(可選X射線熒光法).第3部分:火焰原子吸收光譜法(FAAS)和電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-AES)(ISO 10058-3-2008).德文版本EN ISO 10058-3-2008

國家質(zhì)檢總局，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 25184-2010X射線光電子能譜儀鑒定方法

GB/T 19500-2004X射線光電子能譜分析方法通則

GB/T 21006-2007表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)的線性

GB/T 28632-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測定

GB/T 30704-2014表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南

GB/T 22571-2008表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀.能量標(biāo)尺的校準(zhǔn)

GB/Z 32490-2016表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 確定本底的程序

GB/T 31470-2015俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測試中確定檢測信號對應(yīng)樣品區(qū)域的通則

GB/T 25185-2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.荷電控制和荷電校正方法的報(bào)告

GB/T 28633-2012表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.強(qiáng)度標(biāo)的重復(fù)性和一致性

GB/T 28892-2012表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.選擇儀器性能參數(shù)的表述

GB/T 28893-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果所需的信息

GB/T 25188-2010硅晶片表面超薄氧化硅層厚度的測量 X射線光電子能譜法

GB/Z 21277-2007電子電氣產(chǎn)品中限用物質(zhì)鉛、汞、鉻、鎘和溴的快速篩選.X射線熒光光譜法

GB/T 17359-1998電子探針和掃描電鏡X射線能譜定量分析通則

GB/T 31472-2015X光電子能譜中荷電控制和荷電基準(zhǔn)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南

GB/T 29556-2013表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測到的樣品面積的測定

GB/T 30702-2014表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 實(shí)驗(yàn)測定的相對靈敏度因子在均勻材料定量分析中的使用指南

GB/T 2679.11-2008紙和紙板 無機(jī)填料和無機(jī)涂料的定性分析.電子顯微鏡/X射線能譜法

GB/T 2679.11-1993紙和紙板中無機(jī)填料和無機(jī)涂料的定性分析電子顯微鏡/X射線能譜法

GB/T 32869-2016納米技術(shù) 單壁碳納米管的掃描電子顯微術(shù)和能量色散X射線譜表征方法

美國材料與試驗(yàn)協(xié)會(huì)，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

ASTM E995-16俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E996-04俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程

ASTM E996-10俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程

ASTM E996-94(1999)俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程

ASTM E996-10(2018)俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E996-19俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E2108-16X射線光電子能譜儀的電子結(jié)合能量標(biāo)尺的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐

ASTM E995-11在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E995-04螺旋電子光譜法和X射線光電光譜法中減去背景技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E1523-97X射線光電子能譜法中電荷控制和電荷參考技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E1523-15X射線光電子能譜法中電荷控制和電荷參考技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E2735-14(2020)用于選擇X射線光電子能譜所需校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E1217-11用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測定影響檢測信號樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)程

ASTM E902-94(1999)檢查X射線光電子能譜儀工作特性的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E2108-10用X射線光電子分光計(jì)測定電子能量捆綁刻度的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E1217-00用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測定影響檢測信號的樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)范

ASTM E1217-05用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測定影響檢測信號的樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)范

ASTM E2108-00X射線光電子分光儀的電子結(jié)合能刻度表的校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)程

ASTM E902-05檢查X射線光電子光譜儀的操作特性的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E2735-14選擇X射線光電子光譜40;XPS41試驗(yàn)所需校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E2735-13X射線光電子光譜法 (XPS) 試驗(yàn)所需校準(zhǔn)選擇的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E1523-03X射線光電子譜測定中電荷控制和電荷參照技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E1523-09X射線光電子譜測定中電荷控制和電荷參照技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E1217-11(2019)用于確定在俄歇電子能譜儀和一些X射線光電子能譜儀中檢測到的信號的樣品區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐

ASTM E1588-10e1掃描電子顯微術(shù)/能量散射X射線光譜法射擊殘留物分析的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E2108-05X-射線光電分光儀的電子結(jié)合能刻度表校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E1588-16采用掃描電子顯微術(shù)/能量散射X射線光譜法進(jìn)行射擊殘留物分析的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E1588-16a采用掃描電子顯微術(shù)/能量散射X射線光譜法進(jìn)行射擊殘留物分析的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E1588-17采用掃描電子顯微術(shù)/能量散射X射線光譜法進(jìn)行射擊殘留物分析的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E2994-21用火花原子發(fā)射光譜法和輝光放電原子發(fā)射光譜法分析鈦和鈦合金的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法（基于性能的方法）

ASTM E1588-07e1用掃描電子顯微鏡法/能量色散X射線光譜測定法的射擊殘留物分析用標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E1588-07用掃描電子顯微鏡法/能量色散X射線光譜測定法的射擊殘留物分析用標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E1588-20通過掃描電子顯微鏡/能量色散X射線光譜法進(jìn)行槍支殘留分析的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐

ASTM E2809-13在法醫(yī)油漆檢查中使用掃描電子顯微鏡/X射線光譜法的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E2994-16采用火花原子發(fā)射光譜法和輝光放電原子發(fā)射光譜法進(jìn)行鈦和鈦合金分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法 (基于性能的方法)

ASTM E280-98(2004)e1在法醫(yī)聚合物檢驗(yàn)中使用掃描電子顯微鏡/能量色散X射線光譜（SEM/EDS）的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E280-21在法醫(yī)聚合物檢驗(yàn)中使用掃描電子顯微鏡/能量色散X射線光譜（SEM/EDS）的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E2809-22在法醫(yī)聚合物檢驗(yàn)中使用掃描電子顯微鏡/能量色散X射線光譜（SEM/EDS）的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E3309-21用掃描電子顯微鏡/能量色散X射線光譜法（SEM/EDS）報(bào)告法醫(yī)底漆槍彈殘留物（pGSR）分析的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E3284-23使用掃描電子顯微鏡/能量分散X射線光譜法（SEM/EDS）對底火殘留物（pGSR）進(jìn)行法醫(yī)檢驗(yàn)的培訓(xùn)標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E3061-17用電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法(性能化方法)分析鋁和鋁合金的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 41072-2021表面化學(xué)分析 電子能譜 紫外光電子能譜分析指南

GB/T 41073-2021表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合報(bào)告的基本要求

GB/T 36401-2018表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報(bào)告

GB/T 41064-2021表面化學(xué)分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法

GB/T 39560.301-2020電子電氣產(chǎn)品中某些物質(zhì)的測定 第3-1部分：X射線熒光光譜法篩選鉛、汞、鎘、總鉻和總溴

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

SJ/T 10458-1993俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)則

SJ/T 10714-1996檢查X射線光電子能譜儀工作特性的標(biāo)準(zhǔn)方法

韓國科技標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

KS D ISO 21270:2005表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性

KS D ISO 21270-2005(2020)表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀強(qiáng)度標(biāo)度的線性

KS D ISO 15470-2005(2020)表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀部分性能參數(shù)說明

KS D ISO 19318-2005(2020)表面化學(xué)分析X射線光電子能譜電荷控制和電荷校正方法報(bào)告

KS D ISO 15472-2003(2018)表面化學(xué)分析-X射線光電子分光器-能量刻度矯正

KS D ISO 19319-2005(2020)表面化學(xué)分析－俄歇電子能譜和X射線光電子能譜－分析儀橫向分辨率、分析面積和樣品面積的測定

KS D ISO 18118:2005表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測定相對敏感性因子的使用指南

KS D ISO 18118-2005(2020)表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜均勻材料定量分析用實(shí)驗(yàn)測定的相對靈敏度因子的使用指南

KS D ISO 19319:2005表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測

KS L ISO 20565-3-2012(2017)含鉻耐火制品和含鉻原料的化學(xué)分析（X射線熒光法的替代方法）第3部分:火焰原子吸收光譜法（FAAS）和電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-AES）

KS L ISO 20565-3-2012(2022)含鉻耐火制品和含鉻原料的化學(xué)分析（X射線熒光法的替代方法）第3部分:火焰原子吸收光譜法（FAAS）和電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-AES）

KS L ISO 10058-3-2012(2022)菱鎂礦和白云石耐火制品的化學(xué)分析（代替X射線熒光法）第3部分:火焰原子吸收分光光度法（FAAS）和電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-AES）

KS L ISO 10058-3-2012(2017)菱鎂礦和白云石耐火制品化學(xué)分析方法（X射線熒光法的替代方法）第3部分:火焰原子吸收分光光度法（FAAS）和電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-AES）

KS D ISO 22489:2012微光束分析.電子探針微量分析.運(yùn)用波長色散X射線光譜測量法定量分析塊狀樣品

KS D ISO 15632:2018微束分析 - 用于電子探針微量分析的能量色散X射線光譜儀的規(guī)范和檢查的選定儀器性能參數(shù)

KS L ISO 21079-3-2012(2022)含氧化鋁、氧化鋯和二氧化硅的耐火材料的化學(xué)分析－含5%至45%ZrO2的耐火材料（代替X射線熒光法）－第3部分:火焰原子吸收光譜法（FAAS）和電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-AES）

KS L ISO 21079-3-2012(2017)氧化鋁、氧化鋯、二氧化硅耐火材料化學(xué)分析氧化鋯含量5%～45%的耐火材料（X射線熒光法的替代方法）第3部分:火焰原子吸收光譜法（FAAS）和電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-AES）

KS D ISO 22489:2018微束分析 - 電子探針微量分析 - 使用波長色散X射線光譜法的批量樣品的定量點(diǎn)分析

未注明發(fā)布機(jī)構(gòu)，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

BS ISO 21270:2004(2010)表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)度線性度

BS ISO 18516:2006(2010)表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率的測定

法國標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會(huì)，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

NF X21-061:2008表面化學(xué)分析.螺旋電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定

NF X21-071:2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析用導(dǎo)則

NF X21-073*NF ISO 16243:2012表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)

NF ISO 16243:2012表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜(XPS)中的數(shù)據(jù)記錄和報(bào)告

NF X21-058:2006表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜學(xué)和X射線光電子光譜法.測定峰強(qiáng)度使用的方法和報(bào)告結(jié)果時(shí)需要的信息

NF A09-230-3:1999無損檢驗(yàn).X射線電子管電壓的測量和評價(jià).第3部分:光譜測定法

NF X21-003:2006微光束分析.電子探針顯微分析.波長分布X射線光譜測量法定量分析指南

FD T16-203:2011納米技術(shù) 使用掃描電子顯微鏡和能量色散 X 射線光譜分析法表征單壁碳納米管

NF B40-670-3*NF EN ISO 21587-3:2007硅酸鋁耐火材料的化學(xué)分析（可選擇X射線熒光法）第3部分：感應(yīng)耦合等電子體和原子吸收光譜測定法

NF X21-006:2007微光束分析.電子探針微量分析.用波長色散X-射線光譜測量法進(jìn)行塊狀樣品的定量點(diǎn)分析

澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(huì)，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

AS ISO 15472:2006表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜法．能量標(biāo)度的校準(zhǔn)

AS ISO 15470:2006表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜法．選定儀器性能參數(shù)的描述

AS ISO 19318:2006表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜學(xué)．電荷控制和電荷調(diào)整用報(bào)告法

AS ISO 19319:2006表面化學(xué)分析．Augur電子能譜法和X射線光電子光譜法．分析員對橫向分辨率；分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測

AS ISO 24237:2006表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜學(xué)．強(qiáng)度標(biāo)的可重復(fù)性和恒定性

AS ISO 18118:2006表面化學(xué)分析．俄歇電子能譜法和X射線光電子光譜法．均質(zhì)材料定量分析中實(shí)驗(yàn)測定的相對靈敏系數(shù)使用指南

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 22571-2017表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀 能量標(biāo)尺的校準(zhǔn)

GB/T 33352-2016電子電氣產(chǎn)品中限用物質(zhì)篩選應(yīng)用通則X射線熒光光譜法

GB/T 33502-2017表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜（XPS）數(shù)據(jù)記錄與報(bào)告的規(guī)范要求

KR-KS，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

KS D ISO 15472-2003(2023)表面化學(xué)分析-X射線光電子能譜儀-能量刻度的校準(zhǔn)

KS D ISO 15632-2018微束分析 - 用于電子探針微量分析的能量色散X射線光譜儀的規(guī)范和檢查的選定儀器性能參數(shù)

KS D ISO 22489-2018微束分析 - 電子探針微量分析 - 使用波長色散X射線光譜法的批量樣品的定量點(diǎn)分析

KS D ISO 22489-2018(2023)微束分析.電子探針微量分析.用波長色散x射線光譜法對大塊樣品進(jìn)行定量點(diǎn)分析

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-有色金屬，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

YS/T 739-2010鋁電解質(zhì)分子比及主要成分的測定X射線熒光光譜法

YS/T 644-2007鉑釕合金薄膜測試方法 X射線光電子能譜法 測定合金態(tài)鉑及合金態(tài)釕含量

中國團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

T/ZSA 39-2020石墨烯測試方法 功函數(shù)的測定 紫外光電子能譜法

T/ZGIA 002-2020石墨烯測試方法 功函數(shù)的測定 紫外光電子能譜法

日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會(huì)，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

JIS K 0145:2002表面化學(xué)分析.X射線光電子分光計(jì).能量刻度的校準(zhǔn)

JIS K 0167:2011表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學(xué).勻質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測定相對敏感因子的使用指南

JIS K 0152:2014表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜分析. 強(qiáng)度標(biāo)的重復(fù)性和一致性

JIS T 0306:2002用X射線光電子光譜法分析金屬生物材料形成的無源膜的狀態(tài)

JIS K 0190:2010微光束分析.電子探針顯微分析.波長分散X射線光譜法對質(zhì)量點(diǎn)分析用指南

JIS K 0189:2013微束分析.電子探針顯微分析.波長色散X射線光譜學(xué)用實(shí)驗(yàn)參數(shù)的測定

AT-ON，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

ONORM S 5233-1987用于X射線，Y射線和電子光束的電離室放療的劑量計(jì)

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-商品檢驗(yàn)，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

SN/T 2003.4-2006電子電氣產(chǎn)品中鉛、汞、鉻、鎘和溴的測定.第4部分:能量色散X射線熒光光譜定性篩選法

SN/T 2003.5-2006電子電氣產(chǎn)品中鉛、汞、鉻、鎘和溴的測定 第5部分：能量色散X射線熒光光譜定量篩選法

SN/T 2003.3-2006電子電氣產(chǎn)品中鉛、汞、鎘、鉻和溴的測定.第3部分:X射線熒光光譜定量篩選法

SN/T 2003.1-2005電子電氣產(chǎn)品中鉛、汞、鎘、鉻、溴的測定 第1部分:X射線熒光光譜定性篩選法

GOSTR，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

PNST 507-2020納米技術(shù) 單壁碳納米管 使用透射電子顯微鏡和能量色散 X 射線光譜法進(jìn)行表征

PNST 508-2020納米技術(shù) 單壁碳納米管 通過掃描電子顯微鏡和能量色散 X 射線光譜法表征

丹麥標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會(huì)，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

DS/EN ISO 20565-3:2009含鉻耐火制品和含鉻原材料的化學(xué)分析（替代 X 射線熒光法）第3部分：火焰原子吸收光譜法（FAAS）和電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-

DS/EN ISO 10058-3:2009菱鎂礦和白云石耐火制品的化學(xué)分析（替代 X 射線熒光法） 第3部分：火焰原子吸收分光光度法（FAAS）和電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-AES）

DS/EN ISO 21587-3:2007鋁硅酸鹽耐火制品的化學(xué)分析（替代 X 射線熒光法）第3部分：電感耦合等離子體和原子吸收光譜法

DS/ISO/TS 10798:2011納米技術(shù) 使用掃描電子顯微鏡和能量色散 X 射線光譜分析法表征單壁碳納米管

立陶宛標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

LST EN ISO 20565-3:2009含鉻耐火制品和含鉻原材料的化學(xué)分析（替代 X 射線熒光法）第3部分：火焰原子吸收光譜法（FAAS）和電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-

LST EN ISO 10058-3:2009菱鎂礦和白云石耐火制品的化學(xué)分析（替代 X 射線熒光法） 第3部分：火焰原子吸收分光光度法（FAAS）和電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-AES）（ISO 10058-3:20

LST EN ISO 21587-3:2007鋁硅酸鹽耐火制品的化學(xué)分析（替代 X 射線熒光法） 第3部分：電感耦合等離子體和原子吸收光譜法（ISO 21587-3:2007）

福建省地方標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

DB35/T 110-2000油漆物證檢測電子探針和掃描電鏡X射線能譜分析方法

RU-GOST R，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

GOST R ISO 16243-2016確保測量一致性的國家系統(tǒng). 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜 (XPS) 的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)

廣東省標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

DB44/T 1216-2013利用掃描電子顯微術(shù)和X射線能譜法表征石墨烯的特性

DB44/T 1215-2013利用掃描電子顯微術(shù)和X射線能譜法表征單壁碳納米管的特性

歐洲標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

EN ISO 10058-3:2008菱鎂礦和白云石耐火制品的化學(xué)分析(可代替X射線熒光法).第3部分:火焰原子吸收分光光度法(FAAS)和電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法(ICP-AES)［代替:CEN EN ISO 10058］

AENOR，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

UNE-EN ISO 21587-3:2008鋁硅酸鹽耐火制品的化學(xué)分析（替代 X 射線熒光法） 第3部分：電感耦合等離子體和原子吸收光譜法（ISO 21587-3:2007）

國際電工委員會(huì)，關(guān)于紫外光電子 和x射線光電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)

IEC TS 62607-6-21:2022納米制造.關(guān)鍵控制特性.第6-21部分:石墨烯基材料.元素組成 C/O比:X射線光電子能譜

檢測流程

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